Российский многолучевой литограф ускорит производство чипов в 3000 раз

Российские учёные завершили научно-исследовательские работы по созданию отечественного многолучевого электронного литографа. Эта установка в перспективе сможет использоваться для производства микросхем с технологическими нормами вплоть до нескольких нанометров. Первый опытный образец может появиться примерно через три года. Если проект будет реализован, это станет прорывом для российской микроэлектроники.

Главное отличие новой системы от традиционных электронных литографов заключается в принципе работы. Существующие установки используют один электронный луч. Российская разработка основана на технологии мультикатода, которая формирует сразу множество независимых электронных лучей. Благодаря этому экспонирование кремниевых пластин происходит значительно быстрее. По расчётам разработчиков, обычному однолучевому электронному литографу требуется от полутора до двух недель на обработку одной пластины. Новый многолучевой комплекс сможет выполнять ту же задачу всего за 5–7 минут. Это потенциально увеличивает производительность примерно в 3000 раз.

Главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов рассказал, что инженерам удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра. По его словам, это соответствует одному из лучших мировых результатов. Достижение таких параметров критически важно для создания чипов с нормами менее 10 нм, где требуется высочайшая точность.

Ещё одним преимуществом новой технологии разработчики называют более простую конструкцию. Зарубежные многолучевые литографы обычно используют сложную систему расщепления одного электронного луча с большим количеством зеркал и оптических элементов. Российская установка формирует множество независимых источников электронов сразу на общей подложке. Это позволит снизить стоимость оборудования, уменьшить энергопотребление и упростить требования к инженерной инфраструктуре.

Создание многолучевого литографа станет важным шагом для российской промышленности, но до реального производства ещё далеко. Проект находится на стадии НИР, а не ОКР — это значит, что предстоит ещё много работы по созданию инженерного образца и его доводке. Однако сам факт, что российские учёные могут создать технологию, ср�внимую с мировыми лидерами, уже является достижением. Вопрос в том, сможет ли страна не только разработать, но и запустить в серию подобное оборудование, которое конкурирует с решениями от ASML и других лидеров. Пока что это амбициозный проект, но если он будет реализован, это может изменить расклад сил в мировой полупроводниковой индустрии.

Читайте также: